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隨著塑料製品日溢廣泛的應(yīng)用,如日化用品和飲料包裝容器等,外觀的需要往往要求塑料模具型腔的表麵達到鏡麵拋光的程度。而生(shēng)產光學鏡片、鐳射唱(chàng)片等模具對表麵(miàn)粗糙(cāo)度要求極高,因而對拋光性的要求也(yě)極高。
拋(pāo)光不僅增加(jiā)工件的美觀,而且能夠改善材料表麵(miàn)的耐(nài)腐蝕性(xìng)、耐磨(mó)性,還可以(yǐ)使模具擁有其它優點,如使(shǐ)塑料製品易(yì)於脫(tuō)模,減(jiǎn)少生產注塑周期等。因而拋光在塑(sù)料模具製作過程中是(shì)很重要的一(yī)道(dào)工序。
目前(qián)常用的拋光方法有以下幾(jǐ)種(zhǒng):
1.1 機械拋光
機械拋光是*切削、材料(liào)表麵塑性(xìng)變形去(qù)掉被拋光後的凸部而得到平(píng)滑麵的拋光方法,一般使用油石條、羊毛輪、砂紙等,以手(shǒu)工操作(zuò)為(wéi)主,特殊零件如(rú)回轉體表(biǎo)麵,可使用轉(zhuǎn)台等輔助工具,表麵質(zhì)量 要求高(gāo)的可采用超精研拋的方法。
超精研(yán)拋是采用特(tè)製的磨具,在含有磨料的研拋液中,緊壓在工件被加工表麵上,作高速旋(xuán)轉運動。利用該技術(shù)可以達(dá)到Ra0.008μm的表麵粗糙度,是(shì)各種拋光方法中最高的。光學鏡片模(mó)具常采用這種方法。
1.2 化學拋光
化學拋光是讓材(cái)料在化學介質中表麵微觀凸出的部分較凹部分優先溶解,從而得到平滑麵。這種方法的主要優點是不需複雜設備,可以拋光形狀複雜的工件,可以同時拋光很多工件,效率高。化學拋光的核心問題是拋光液的配製。化學拋光得到的表麵粗糙度一般為數10μm。
1.3 電解拋光
電解拋光基本原理與化學拋光相同,即*選擇性的溶解材料表麵(miàn)微小凸出部分,使表麵光滑。與化學拋光相(xiàng)比,可以消除陰極反應的影(yǐng)響,效果較好。電化學拋光過程分為兩步:
(1)宏觀整平 溶解產(chǎn)物向電解液中(zhōng)擴散,材料表麵幾何粗糙下降,Ra>1μm。
(2)微光平整 陽極極化(huà),表麵(miàn)光(guāng)亮(liàng)度提高,Ra<1μm。
1.4 超(chāo)聲波拋光
將工件放入磨料懸(xuán)浮液(yè)中並一起置(zhì)於超聲波場中,依*超聲(shēng)波的(de)振蕩作用,使(shǐ)磨(mó)料在工件表麵磨削拋光。超(chāo)聲波加工宏觀(guān)力小,不會引起工件變形,但工裝(zhuāng)製作和安裝較困難。超聲波加工(gōng)可以與化學或電化學方法結合。在溶液(yè)腐蝕、電解的基礎上,再(zài)施加超聲波(bō)振動攪拌溶液,使工件表麵溶解產(chǎn)物(wù)脫離,表麵附近的腐蝕或電解(jiě)質均勻;超聲波(bō)在液體中(zhōng)的空化作(zuò)用還能夠抑製腐(fǔ)蝕過程,利於表麵光亮化
1.5 流體拋(pāo)光
流體拋光是依*高(gāo)速流動的液(yè)體(tǐ)及其攜帶(dài)的磨(mó)粒衝刷工件表麵達到拋光的目的。常用方法有(yǒu):磨料(liào)噴射(shè)加工(gōng)、液(yè)體噴(pēn)射加工、流體動力研磨等。流體動力研磨是由液壓驅動,使攜帶磨粒的液體介質高(gāo)速往複流過工件表麵(miàn)。介質主要采用(yòng)在較低壓力下流過性好的特殊化合物(聚合物狀物質)並摻上(shàng)磨料(liào)製成,磨料可(kě)采用(yòng)碳化矽粉末。
1.6 磁研磨拋光
磁研磨拋光是利用磁性磨料在磁場作用下形成磨料刷,對工件磨削加工。這(zhè)種方法加工效率高,質量好(hǎo),加工條件容易控製,工作條件好。采用合適的磨料,表麵(miàn)粗糙度可以達到Ra0.1μm。
在塑料模具加工中所說的拋光與其他行業中所要求的(de)表(biǎo)麵拋光有很大的不同,嚴格來說,模具的拋(pāo)光應該稱為鏡麵加工。它不僅對拋(pāo)光本身有很高的(de)要求並且對表麵平(píng)整度(dù)、光滑度以及幾何(hé)精確度也有很高的(de)標準。表麵拋光一般隻要求獲得光亮的(de)表麵即可。
鏡麵加(jiā)工的(de)標準(zhǔn)分為四級:AO=Ra0.008μm,A1=Ra0.016μm,A3=Ra0.032μm,A4=Ra0.063μm,由於電解拋光、流體拋(pāo)光等方法很難精確控(kòng)製零件的幾何精確度,而化學拋(pāo)光、超聲波拋光、磁研磨拋光等方(fāng)法的表麵質量又達不到要求(qiú),所以精密模具的鏡麵加工(gōng)還(hái)是以機械拋光為主。
機械拋光基本程序
要想獲(huò)得高質量的拋光效果,最重要(yào)的(de)是要具備有高質量的油石、砂紙和鑽(zuàn)石研磨膏等(děng)拋光工具和輔助(zhù)品(pǐn)。而拋光程(chéng)序的選擇取決於前期(qī)加(jiā)工(gōng)後的表麵狀況,如機械加工、電火花(huā)加工,磨加工等等。機械拋光的一般(bān)過程如下:
1、粗拋
經銑、電火(huǒ)花、磨等工藝後的表(biǎo)麵可以選擇轉速在35 000—40 000 rpm的旋轉(zhuǎn)表麵拋光機或超聲波研磨機進行拋光。常用的方法有利用直徑Φ3mm、WA # 400的(de)輪子去除白色電火(huǒ)花層。然後是手(shǒu)工油石研磨,條狀油石加煤油作為潤滑劑或冷卻劑(jì)。一般的使用順(shùn)序為#180 ~ #240 ~ #320 ~ #400 ~ #600 ~ #800 ~ #1000。許多模具製造商為了節約時間而選擇從#400開始。
2、半精拋
半精拋主要使用砂紙和(hé)煤油。砂紙(zhǐ)的號數依次為:#400 ~ #600 ~ #800 ~ #1000 ~ #1200 ~ #1500。實際上#1500砂紙(zhǐ)隻用適於淬硬的模具鋼(52HRC以上(shàng)),而不適用於預(yù)硬鋼,因為這樣可能會導致預硬鋼件表麵燒傷。
3、精拋
精拋主要使用鑽石研(yán)磨膏。若用拋光布(bù)輪混合鑽石研磨粉或(huò)研磨膏進行研磨的話,則通(tōng)常(cháng)的研磨順序是(shì)9μm(#1800)~ 6μm(#3000)~3μm(#8000)。9μm的鑽石研磨(mó)膏和拋光布輪可用來去除(chú)#1200和#1500號砂紙留下的發狀磨痕。接著用粘氈和鑽石研磨膏進行拋光,順序為1μm(#14000)~ 1/2μm(#60000)~1/4μm(#100000)。
精度要求在1μm以上(包括(kuò)1μm)的拋光工藝在模具加工車間中一個清(qīng)潔的拋光室內(nèi)即可進行。若進行更加精密的拋光(guāng)則必需一個絕對潔淨的空間。灰(huī)塵、煙霧,頭皮屑和口水沫都有可能報廢數個小時工作後得到的高精(jīng)密拋光表麵。
機械拋光中要注意(yì)的問題
用砂(shā)紙拋光應注意以下幾點:
1、用(yòng)砂紙拋光需要利用軟的木棒或竹棒(bàng)。在拋光圓麵或球麵(miàn)時,使用軟木(mù)棒可更好的配合(hé)圓麵和球麵的(de)弧度。而較硬的木條像櫻桃木,則更適用(yòng)於平整表麵的拋(pāo)光。修(xiū)整木條的末(mò)端使其能(néng)與鋼件表麵形狀保持吻合,這樣可以避免木條(或竹條)的銳角(jiǎo)接觸鋼件表麵而造成較深的劃痕。
2、當換用不同型號的砂紙時,拋光方向應(yīng)變換45°~ 90°,這樣前一種型號砂紙拋光後留下的條紋陰影即可分辨(biàn)出來。在換不同型號砂紙之前,必須用100%純棉花沾取酒精之類的(de)清潔液對拋(pāo)光表麵進行仔細的擦拭,因為一顆很小的沙礫留在表麵都(dōu)會毀壞接下去的整個拋光工作。從砂紙拋光換成鑽(zuàn)石研磨膏拋光時,這個清潔過程同樣重要。在拋光繼續(xù)進行之前,所有顆粒和煤油都(dōu)必須被完全清潔幹淨。
3、為了避免擦傷和燒傷工件表麵,在用#1200和#1500砂紙進行(háng)拋(pāo)光時必須特別小心。因而有必要加載一個輕載荷(hé)以及采用兩步拋光法(fǎ)對表麵進行拋光(guāng)。用每一種型號的砂紙進行拋光時都應沿兩(liǎng)個不(bú)同方向進行兩次拋光,兩個方向之間每次轉動45°~ 90°。
鑽石研磨拋光應注意以下幾點:
1、這種拋光必須盡量在較輕的壓力下進行特別是拋光預硬鋼件和用細研磨(mó)膏拋光時。在用#8000研磨膏拋光時,常用載荷為100~200g/cm2,但要(yào)保持此載荷的精準度(dù)很難做到。
為了更容易做到這一點,可以在木條上做一個薄且窄的手柄,比如加一銅(tóng)片;或者在(zài)竹條上切去一部分而使其更加柔軟。這樣可以幫(bāng)助控製拋光(guāng)壓力(lì),以確保模具表麵(miàn)壓(yā)力不會過高。
2、當使用鑽石研磨拋光時,不僅是工作(zuò)表麵要求潔淨(jìng),工作者的雙手也必(bì)須仔細清潔。
3、每次拋光時間不應(yīng)過長(zhǎng),時(shí)間越短,效果越好。如果拋光過程進行得(dé)過長將會造成“橘皮”和“點蝕”。
4、為獲得高質(zhì)量的拋光效果,容易發熱的拋光方法和工(gōng)具都應避免。比如:拋光輪拋(pāo)光,拋光輪產生的熱量(liàng)會很容易造成“橘皮”。
5、當拋光過程停止時(shí),保證工件(jiàn)表麵潔淨和仔細去除所有研磨劑和潤滑劑(jì)非常重(chóng)要,隨後應在表麵(miàn)噴淋一層模具防鏽塗層。
由於機械(xiè)拋光主要還是*人(rén)工完成,所以拋光技術目前還是影響拋光質量的主要原因。除此(cǐ)之外,還與模具材(cái)料、拋(pāo)光前的表麵狀況、熱處理工藝等有關。優質的鋼材是獲得良好拋光質量的前提條件,如果鋼材表麵硬度不(bú)均或特性上有差異,往往會產生拋光困難(nán)。鋼材中的各種夾雜(zá)物和氣孔(kǒng)都不利於拋光。
不(bú)同硬度對拋光工藝(yì)的影響
硬度增高使研磨的困難增(zēng)大,但拋光後的粗糙度(dù)減小。由(yóu)於硬度的增高,要達到較(jiào)低的粗糙度所需的拋光時間相應增長。同時(shí)硬度增高(gāo),拋光過(guò)度的可能性相應減少。
工(gōng)件表麵(miàn)狀況對拋光工藝的影響
鋼材在切削機械加工(gōng)的(de)破碎過程中(zhōng),表層(céng)會因熱量、內應力或其他因素而損壞(huài),切(qiē)削參數不當會影響(xiǎng)拋光效果。電火花加工後的表麵(miàn)比(bǐ)普通機械加工(gōng)或熱處理後的表麵更難研磨,因此電火花加工結束前應采用精規準電火花修整,否則(zé)表麵會形成硬化薄層。
如果(guǒ)電火花精修規準選擇不當,熱影(yǐng)響層的深度最大可達0.4mm。硬化薄層的(de)硬度比基體硬度高,必須去除。因此最好(hǎo)增(zēng)加一道粗磨加工,徹底清除損壞表麵層,構成(chéng)一片平均粗糙的金屬麵,為拋光加工提供一個良好基礎。
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